Apartament The Royal Executive Retreat Residencies Which Offers A Modern Luxurious Lifestyle In Kilimani Nairobi
Nairobi
Galeria
Opis
Opis
Galeria
Mapa
Pokoje
Wyposażenie
Często Zadawane Pytania
Wpisz daty
Sprawdź dostępność
Wpisz daty
Sprawdź dostępność
4.0 Przyjemnie
1 opinia
Apartament The Royal Executive Retreat Residencies Which Offers A Modern Luxurious Lifestyle In Kilimani Nairobi
George Padmore Road, Nairobi, Kenia
Zobacz na mapie
Apartament The Royal Executive Retreat Residencies Which Offers A Modern Luxurious Lifestyle In Kilimani Nairobi oferuje łatwy dostęp do takich atrakcji turystycznych jak University of Eastern Africa, położonych w odległości 6 min spacerem. Obecność krytego basenu zapewnia wysoki poziom zadowolenia gości.
Park Uhuru znajduje się 3 km od tego apartamentu, a Archiwa Państwowe leży w prawie 4 km. Apartament położony jest w dzielnicy Kilimani. Wieżowiec Kenyatta International Conference Centre leży w prawie 3,1 km.
Apartament The Royal Executive Retreat Residencies Which Offers A Modern Luxurious Lifestyle In Kilimani jest położony w prawie 4 km od stacji metra Nairobi.
+ Więcej- Mniej
Udogodnienia
Wi-Fi
Basen
Zwierzęta nie są dozwolone
+ Więcej
Galeria
Mapa
Lokalne atrakcje w
Nairobi
Dostępność i ceny pokoju
Proszę czekać, sprawdzamy dostępność pokoi.
Udogodnienia
W hotelu
Wi-Fi
Parking
Zakaz wprowadzania zwierząt
Rozrywka
Basen kryty
Ogród
Udogodnienia w pokoju
Taras
Udogodnienia
Wi-Fi
Basen
Zwierzęta nie są dozwolone
Ważne informacje
Przyjazd:od 15:00 do 22:00
Wyjazd:od 08:00 do 10:00
Często Zadawane Pytania
❓
Jakie lotnisko znajduje się najbliżej apartamentu?
Najbliższe lotnisko, Nairobi Wilson, znajduje się 10 min jazdy od apartamentu.
❓
Który przystanek znajduje się najbliżej tego apartamentu?
Najbliższy przystanek autobusowy to Prestige Plaza, który znajduje się jedynie 5 min piechotą od tego apartamentu.
❓
Jakie restauracje w pobliżu apartamentu są polecane?
Goście apartamentu mogą wybrać się do pobliskiej restauracji Pete's Cafe & Burrito Haven na dania kuchni meksykańskiej.